Silicon Carbide Substrates|SiC Wafers

Maikling Paglalarawan:

Ang WeiTai Energy Technology Co., Ltd. ay isang nangungunang supplier na dalubhasa sa wafer at advanced na semiconductor consumable.Kami ay nakatuon sa pagbibigay ng mataas na kalidad, maaasahan, at makabagong mga produkto sa paggawa ng semiconductor, industriya ng photovoltaic at iba pang nauugnay na larangan.

Kasama sa aming linya ng produkto ang SiC/TaC coated graphite na mga produkto at ceramic na produkto, na sumasaklaw sa iba't ibang materyales gaya ng silicon carbide, silicon nitride, at aluminum oxide at iba pa.

Sa kasalukuyan, kami lamang ang tagagawa na nagbibigay ng kadalisayan ng 99.9999% SiC coating at 99.9% na recrystallized na silicon carbide.Ang maximum na haba ng coating ng SiC ay 2640mm.


Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

SiC-Wafer

Silicon carbide (SiC) single crystal material ay may malaking band gap width (~Si 3 beses), mataas na thermal conductivity (~Si 3.3 beses o GaAs 10 beses), mataas na electron saturation migration rate (~Si 2.5 times), mataas na breakdown electric field (~Si 10 beses o GaAs 5 beses) at iba pang natitirang katangian.

Ang mga aparatong SiC ay may hindi maaaring palitan na mga pakinabang sa larangan ng mataas na temperatura, mataas na presyon, mataas na dalas, mataas na kapangyarihan na mga elektronikong aparato at matinding aplikasyon sa kapaligiran tulad ng aerospace, militar, enerhiyang nuklear, atbp., na bumubuo sa mga depekto ng tradisyonal na mga aparatong materyal na semiconductor sa praktikal mga aplikasyon, at unti-unting nagiging mainstream ng power semiconductors.

Mga detalye ng 4H-SiC Silicon carbide substrate

Item项目

Mga pagtutukoy参数

Polytype
晶型

4H -SiC

6H- SiC

diameter
晶圆直径

2 pulgada |3 pulgada |4 pulgada |6 pulgada

2 pulgada |3 pulgada |4 pulgada |6 pulgada

kapal
厚度

330 μm ~ 350 μm

330 μm ~ 350 μm

Konduktibidad
导电类型

N – uri / Semi-insulating
N型导电片/ 半绝缘片

N – uri / Semi-insulating
N型导电片/ 半绝缘片

Dopant
掺杂剂

N2 ( Nitrogen )V ( Vanadium )

N2 ( Nitrogen ) V ( Vanadium )

Oryentasyon
晶向

Sa axis <0001>
Off axis <0001> off 4°

Sa axis <0001>
Off axis <0001> off 4°

Resistivity
电阻率

0.015 ~ 0.03 ohm-cm
(4H-N)

0.02 ~ 0.1 ohm-cm
(6H-N)

Densidad ng Micropipe(MPD)
微管密度

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

≤10/cm2 ~ ≤1/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

≤ 15 μm

Bow / Warp
翘曲度

≤25 μm

≤25 μm

Ibabaw
表面处理

DSP/SSP

DSP/SSP

Grade
产品等级

Marka ng Produksyon / Pananaliksik

Marka ng Produksyon / Pananaliksik

Crystal Stacking Sequence
堆积方式

ABCB

ABCABC

Parameter ng sala-sala
晶格参数

a=3.076A , c=10.053A

a=3.073A , c=15.117A

Hal/eV(Band-gap)
禁带宽度

3.27 eV

3.02 eV

ε(Dielectric Constant)
介电常数

9.6

9.66

Index ng Repraksyon
折射率

n0 =2.719 ne =2.777

n0 =2.707 , ne =2.755

Mga pagtutukoy ng substrate ng 6H-SiC Silicon Carbide

Item项目

Mga pagtutukoy参数

Polytype
晶型

6H-SiC

diameter
晶圆直径

4 pulgada |6 pulgada

kapal
厚度

350μm ~ 450μm

Konduktibidad
导电类型

N – uri / Semi-insulating
N型导电片/ 半绝缘片

Dopant
掺杂剂

N2( Nitrogen )
V ( Vanadium )

Oryentasyon
晶向

<0001> off 4°± 0.5°

Resistivity
电阻率

0.02 ~ 0.1 ohm-cm
(6H-N Uri)

Densidad ng Micropipe(MPD)
微管密度

≤ 10/cm2

TTV
总厚度变化

≤ 15 μm

Bow / Warp
翘曲度

≤25 μm

Ibabaw
表面处理

Si Mukha: CMP, Epi-Ready
C Mukha: Optical Polish

Grade
产品等级

Marka ng pananaliksik

Lugar ng trabaho sa Semicera Lugar ng trabaho sa Semicera 2 Makina ng kagamitan Pagproseso ng CNN, paglilinis ng kemikal, patong ng CVD Aming serbisyo


  • Nakaraan:
  • Susunod: