Nagbibigay ang Semicera ng espesyal na tantalum carbide (TaC) coatings para sa iba't ibang bahagi at carrier.Ang Semicera leading coating process ay nagbibigay-daan sa tantalum carbide (TaC) coatings na makamit ang mataas na kadalisayan, mataas na temperatura na katatagan at mataas na chemical tolerance, pagpapabuti ng kalidad ng produkto ng SIC/GAN crystals at EPI layers (Graphite coated TaC susceptor), at pagpapahaba ng buhay ng mga pangunahing bahagi ng reaktor. Ang paggamit ng tantalum carbide TaC coating ay upang malutas ang problema sa gilid at mapabuti ang kalidad ng paglaki ng kristal, at nalutas ng Semicera ang tantalum carbide coating technology (CVD), na umabot sa internasyonal na advanced na antas.
Matapos ang mga taon ng pag-unlad, nasakop ng Semicera ang teknolohiya ngCVD TaCsa magkasanib na pagsisikap ng departamento ng R&D. Ang mga depekto ay madaling mangyari sa proseso ng paglago ng SiC wafers, ngunit pagkatapos gamitinTaC, ang pagkakaiba ay makabuluhan. Nasa ibaba ang isang paghahambing ng mga wafer na may at walang TaC, pati na rin ang mga bahagi ng Semicera para sa solong paglaki ng kristal
mayroon at walang TaC
Pagkatapos gamitin ang TaC (kanan)
Bilang karagdagan, ang buhay ng serbisyo ng mga produktong TaC coating ng Semicera ay mas mahaba at mas lumalaban sa mataas na temperatura kaysa sa SiC coating. Pagkatapos ng mahabang panahon ng data ng pagsukat sa laboratoryo, ang aming TaC ay maaaring gumana nang mahabang panahon sa maximum na 2300 degrees Celsius. Ang mga sumusunod ay ilan sa aming mga sample:
(a) Schematic diagram ng SiC single crystal ingot growing device sa pamamagitan ng PVT method (b) Top TaC coated seed bracket (kabilang ang SiC seed) (c) TAC-coated graphite guide ring
