Nagbibigay ang Semicera ng espesyal na tantalum carbide (TaC) coatings para sa iba't ibang bahagi at carrier.Ang Semicera leading coating process ay nagbibigay-daan sa tantalum carbide (TaC) coatings na makamit ang mataas na kadalisayan, mataas na temperatura na katatagan at mataas na chemical tolerance, pagpapabuti ng kalidad ng produkto ng SIC/GAN crystals at EPI layers (Graphite coated TaC susceptor), at pagpapahaba ng buhay ng mga pangunahing bahagi ng reaktor. Ang paggamit ng tantalum carbide TaC coating ay upang malutas ang problema sa gilid at mapabuti ang kalidad ng paglaki ng kristal, at nalutas ng Semicera ang tantalum carbide coating technology (CVD), na umabot sa internasyonal na advanced na antas.
Matapos ang mga taon ng pag-unlad, nasakop ng Semicera ang teknolohiya ngCVD TaCsa magkasanib na pagsisikap ng departamento ng R&D. Ang mga depekto ay madaling mangyari sa proseso ng paglago ng SiC wafers, ngunit pagkatapos gamitinTaC, ang pagkakaiba ay makabuluhan. Nasa ibaba ang isang paghahambing ng mga wafer na may at walang TaC, pati na rin ang mga bahagi ng Simicera para sa solong paglaki ng kristal.
mayroon at walang TaC
Pagkatapos gamitin ang TaC (kanan)
Bukod dito, ang Semicera'sMga produktong pinahiran ng TaCnagpapakita ng mas mahabang buhay ng serbisyo at mas mataas na paglaban sa mataas na temperatura kumpara saSiC coatings.Ang mga sukat sa laboratoryo ay nagpakita na ang amingTaC coatingsay maaaring patuloy na gumanap sa mga temperatura hanggang sa 2300 degrees Celsius para sa pinalawig na mga panahon. Nasa ibaba ang ilang halimbawa ng aming mga sample:
