Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring

Maikling Paglalarawan:

Nagbibigay ang Semicera ng mataas na kalidad na Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring pati na rin ang mga customized na serbisyo. Ang aming Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring ay precision manufactured at mahigpit na kinokontrol ang kalidad upang matiyak ang tibay at pagiging maaasahan nito, na maaaring malawakang magamit sa paggawa ng semiconductor at iba pang nauugnay na larangan. Maaari kang bumili ng solid silicon carbide (SiC) etching rings mula sa aming pabrika nang may kumpiyansa. Inaasahan ng Semicera na magtatag ng pangmatagalang pakikipagsosyo sa iyo sa China.

Magpadala ng email sa amin

Detalye ng Produkto

Mga Tag ng Produkto

Bakit Silicon Carbide Etching Ring?

Ang Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings na inaalok ng Semicera ay ginawa sa pamamagitan ng Chemical Vapor Deposition (CVD) na paraan at ito ay isang natatanging resulta sa larangan ng mga aplikasyon ng precision etching process. Ang Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings na ito ay kilala sa kanilang mahusay na tigas, thermal stability at corrosion resistance, at ang superyor na kalidad ng materyal ay sinisiguro ng CVD synthesis.

Partikular na idinisenyo para sa mga proseso ng pag-ukit, ang masungit na istraktura ng Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings at mga natatanging katangian ng materyal ay may mahalagang papel sa pagkamit ng katumpakan at pagiging maaasahan. Hindi tulad ng mga tradisyunal na materyales, ang solidong bahagi ng SiC ay may walang kapantay na tibay at paglaban sa pagsusuot, na ginagawa itong isang kailangang-kailangan na bahagi sa mga industriya na nangangailangan ng katumpakan at mahabang buhay.

Ang aming Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings ay precision manufactured at quality controlled para matiyak ang kanilang superior performance at reliability. Sa paggawa man ng semiconductor o iba pang nauugnay na larangan, ang Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Rings na ito ay maaaring magbigay ng matatag na pagganap ng pag-ukit at mahusay na mga resulta ng pag-ukit.

Kung interesado ka sa aming Solid Silicon Carbide(SiC) Etching Ring, mangyaring makipag-ugnayan sa amin. Bibigyan ka ng aming team ng detalyadong impormasyon ng produkto at propesyonal na teknikal na suporta upang matugunan ang iyong mga pangangailangan. Inaasahan namin ang pagtatatag ng pangmatagalang pakikipagsosyo sa iyo at magkatuwang na isulong ang pag-unlad ng industriya.

Ang aming kalamangan, bakit pumili ng Semicera?

✓Nangungunang kalidad sa merkado ng China

✓Magandang serbisyo palagi para sa iyo, 7*24 na oras

✓Maikling petsa ng paghahatid

✓Maliit na MOQ tinatanggap at tinatanggap

✓ Mga pasadyang serbisyo

Aplikasyon

Epitaxy Growth Susceptor

Ang mga silicone/silicon carbide wafer ay kailangang dumaan sa maraming proseso upang magamit sa mga elektronikong aparato. Isang mahalagang proseso ang silicon/sic epitaxy, kung saan ang mga silicon/sic wafer ay dinadala sa isang graphite base. Ang mga espesyal na bentahe ng silicon carbide-coated graphite base ng Semicera ay kinabibilangan ng napakataas na kadalisayan, pare-parehong patong, at napakahabang buhay ng serbisyo. Mayroon din silang mataas na chemical resistance at thermal stability.

Silicon Epitaxy Susceptor

Silicon Carbide Epitaxy Susceptor

Produksyon ng LED Chip

Sa panahon ng malawak na patong ng MOCVD reactor, ginagalaw ng planetary base o carrier ang substrate wafer. Ang pagganap ng base na materyal ay may malaking impluwensya sa kalidad ng patong, na kung saan ay nakakaapekto sa scrap rate ng chip. Pinapataas ng silicon carbide-coated base ng Semicera ang kahusayan sa pagmamanupaktura ng mataas na kalidad na LED wafers at pinapaliit ang wavelength deviation. Nagbibigay din kami ng mga karagdagang bahagi ng grapayt para sa lahat ng MOCVD reactor na kasalukuyang ginagamit. Maaari naming lagyan ng coating ang halos anumang bahagi ng silicon carbide coating, kahit na ang diameter ng component ay hanggang 1.5M, maaari pa rin kaming mag-coat ng silicon carbide.

LED Epitaxy Susceptor

Semiconductor Field, Proseso ng Oxidation Diffusion, Atbp.

Sa proseso ng semiconductor, ang proseso ng pagpapalawak ng oksihenasyon ay nangangailangan ng mataas na kadalisayan ng produkto, at sa Semicera nag-aalok kami ng mga custom at CVD coating na serbisyo para sa karamihan ng mga bahagi ng silicon carbide.

Ipinapakita ng sumusunod na larawan ang rough-processed na silicon carbide slurry ng Semicea at ang silicon carbide furnace tube na nililinis sa 1000-levelwalang alikaboksilid. Ang aming mga manggagawa ay nagtatrabaho bago patong. Ang kadalisayan ng aming silicon carbide ay maaaring umabot sa 99.99%, at ang kadalisayan ng sic coating ay higit sa 99.99995%.