Balita

  • Ano ang CVD Coated Process Tube? | Semicera

    Ano ang CVD Coated Process Tube? | Semicera

    Ang isang CVD coated process tube ay isang kritikal na bahagi na ginagamit sa iba't ibang high-temperature at high-purity manufacturing environment, tulad ng semiconductor at photovoltaic production. Sa Semicera, nagdadalubhasa kami sa paggawa ng mataas na kalidad na CVD coated process tubes na nag-aalok ng supe...
    Magbasa pa
  • Ano ang Isostatic Graphite? | Semicera

    Ano ang Isostatic Graphite? | Semicera

    Ang Isostatic graphite, na kilala rin bilang isostatically formed graphite, ay tumutukoy sa isang paraan kung saan ang pinaghalong mga hilaw na materyales ay na-compress sa hugis-parihaba o bilog na mga bloke sa isang sistema na tinatawag na cold isostatic pressing (CIP). Ang malamig na isostatic pressing ay isang paraan ng pagproseso ng materyal na...
    Magbasa pa
  • Ano ang Tantalum Carbide? | Semicera

    Ano ang Tantalum Carbide? | Semicera

    Ang Tantalum carbide ay isang napakatigas na ceramic na materyal na kilala sa mga pambihirang katangian nito, lalo na sa mga kapaligirang may mataas na temperatura. Sa Semicera, espesyalista kami sa pagbibigay ng pinakamataas na kalidad na tantalum carbide na nag-aalok ng mahusay na pagganap sa mga industriya na nangangailangan ng mga advanced na materyales para sa matinding ...
    Magbasa pa
  • Ano ang isang Quartz Furnace Core Tube? | Semicera

    Ano ang isang Quartz Furnace Core Tube? | Semicera

    Ang isang quartz furnace core tube ay isang mahalagang bahagi sa iba't ibang mga kapaligiran sa pagpoproseso ng mataas na temperatura, na malawakang ginagamit sa mga industriya tulad ng pagmamanupaktura ng semiconductor, metalurhiya, at pagproseso ng kemikal. Sa Semicera, espesyalista kami sa paggawa ng mga de-kalidad na quartz furnace core tube na kilala ...
    Magbasa pa
  • Proseso ng Dry Etching

    Proseso ng Dry Etching

    Ang proseso ng dry etching ay karaniwang binubuo ng apat na pangunahing estado: bago ang pag-ukit, bahagyang pag-ukit, pag-ukit lamang, at pag-ukit nang labis. Ang mga pangunahing katangian ay ang rate ng etching, selectivity, kritikal na dimensyon, pagkakapareho, at endpoint detection. Larawan 1 Bago ang pag-ukit Larawan 2 Ang bahagyang pag-ukit Figu...
    Magbasa pa
  • SiC Paddle sa Semiconductor Manufacturing

    SiC Paddle sa Semiconductor Manufacturing

    Sa larangan ng paggawa ng semiconductor, ang SiC Paddle ay gumaganap ng isang mahalagang papel, lalo na sa proseso ng paglago ng epitaxial. Bilang isang pangunahing bahagi na ginagamit sa mga sistema ng MOCVD (Metal Organic Chemical Vapor Deposition), ang SiC Paddles ay inengineered upang makatiis ng mataas na temperatura at ...
    Magbasa pa
  • Ano ang Wafer Paddle? | Semicera

    Ano ang Wafer Paddle? | Semicera

    Ang isang wafer paddle ay isang mahalagang bahagi na ginagamit sa semiconductor at photovoltaic na industriya upang mahawakan ang mga wafer sa panahon ng mga prosesong may mataas na temperatura. Sa Semicera, ipinagmamalaki namin ang aming mga advanced na kakayahan upang makagawa ng mga de-kalidad na wafer paddle na nakakatugon sa mahigpit na pangangailangan ng...
    Magbasa pa
  • Proseso at Kagamitang Semiconductor(7/7)- Proseso at Kagamitan sa Paglago ng Manipis na Pelikula

    Proseso at Kagamitang Semiconductor(7/7)- Proseso at Kagamitan sa Paglago ng Manipis na Pelikula

    1. Panimula Ang proseso ng paglalagay ng mga sangkap (hilaw na materyales) sa ibabaw ng mga materyal na substrate sa pamamagitan ng pisikal o kemikal na mga pamamaraan ay tinatawag na thin film growth.Ayon sa iba't ibang mga prinsipyo sa pagtatrabaho, ang integrated circuit thin film deposition ay maaaring nahahati sa:-Physical Vapor Deposition ( P...
    Magbasa pa
  • Proseso at Kagamitan ng Semiconductor(6/7)- Proseso at Kagamitan ng Ion Implantation

    Proseso at Kagamitan ng Semiconductor(6/7)- Proseso at Kagamitan ng Ion Implantation

    1. Panimula Ion implantation ay isa sa mga pangunahing proseso sa integrated circuit manufacturing. Ito ay tumutukoy sa proseso ng pagpapabilis ng isang ion beam sa isang tiyak na enerhiya (karaniwan ay nasa hanay ng keV hanggang MeV) at pagkatapos ay iniksyon ito sa ibabaw ng isang solidong materyal upang baguhin ang pisikal na prop...
    Magbasa pa
  • Proseso at Kagamitan ng Semiconductor(5/7)- Proseso at Kagamitan sa Pag-ukit

    Proseso at Kagamitan ng Semiconductor(5/7)- Proseso at Kagamitan sa Pag-ukit

    Isang Panimula Ang pag-ukit sa proseso ng pagmamanupaktura ng integrated circuit ay nahahati sa:-Wet etching;-Dry etching. Noong mga unang araw, malawakang ginagamit ang wet etching, ngunit dahil sa mga limitasyon nito sa line width control at etching directionality, karamihan sa mga proseso pagkatapos ng 3μm ay gumagamit ng dry etching. Ang basang pag-ukit ay...
    Magbasa pa
  • Proseso at Kagamitang Semiconductor(4/7)- Proseso at Kagamitan sa Photolithography

    Proseso at Kagamitang Semiconductor(4/7)- Proseso at Kagamitan sa Photolithography

    Isang Pangkalahatang-ideya Sa proseso ng pagmamanupaktura ng integrated circuit, ang photolithography ay ang pangunahing proseso na tumutukoy sa antas ng pagsasama ng mga integrated circuit. Ang function ng prosesong ito ay tapat na magpadala at ilipat ang circuit graphic na impormasyon mula sa mask (tinatawag ding mask)...
    Magbasa pa
  • Ano ang Silicon Carbide Square Tray

    Ano ang Silicon Carbide Square Tray

    Ang Silicon Carbide Square Tray ay isang high-performance carrying tool na idinisenyo para sa paggawa at pagproseso ng semiconductor. Pangunahing ginagamit ito upang magdala ng mga materyales na may katumpakan tulad ng mga silicon wafer at silicon carbide wafer. Dahil sa napakataas na tigas, mataas na temperatura na paglaban, at kemikal ...
    Magbasa pa