MOCVD 3×2”Susceptor

kay SemiceraMOCVDAng 3x2” Susceptor ay isang pangunahing bahagi na espesyal na idinisenyo para sa mga proseso ng epitaxy sa industriya ng semiconductor, lalo na para saSi EpitaxyatSiC Epitaxymga proseso. AngMOCVD Susceptortinitiyak ang pare-parehong pamamahagi ng temperatura sa panahon ng proseso ng epitaxy sa pamamagitan ng na-optimize na thermal conductivity, sa gayon ay pinapabuti ang katumpakan at kalidad ng monocrystalline silicon (Monocrystalline Silicon) deposition.

Ang Semicera ay palaging nakatuon sa pagbibigay sa mga customer ng mataas na kalidad na MOCVD 3x2” Susceptors. Ginawa ng mga advanced na materyales, ang produktong ito ay hindi lamang may mahusay na mataas na temperatura na paglaban, ngunit nananatiling matatag sa kumplikadong mga kemikal na kapaligiran. Mahusay itong gumaganap sa iba't ibang kagamitan sa epitaxy, lalo na saBarrel Susceptorapplication, at ang pagiging maaasahan at pagganap nito ay malawak na kinikilala.

Nagbibigay kami ng customized na MOCVD Susceptors para sa iba't ibang mga kinakailangan sa proseso upang mapakinabangan ang kahusayan sa produksyon at mabawasan ang pagkawala ng materyal. Ang MOCVD 3x2” Susceptor ng Semicera ay hindi lamang nagpapahaba ng buhay ng kagamitan, ngunit nagbibigay din ng mas matatag na suporta para saSi EpitaxyatSiC Epitaxyproseso sa pamamagitan ng katumpakan na disenyo, tinitiyak ang pagkakapare-pareho ng kalidad ng epitaxial layer at mataas na kadalisayan ng produkto.

Ang Semicera ay palaging nakatuon sa pagbibigay sa mga customer ng maaasahan, matibay at mahusay na mga bahagi ng epitaxial na kagamitan. Sa mga kapaligiran man sa laboratoryo o malakihang industriyal na produksyon, ang MOCVD 3x2” Susceptor ay makakatugon sa pinakamahigpit na teknikal na kinakailangan, na tumutulong sa mga customer na makamit ang mas mataas na kontrol sa proseso at mas mahusay na output ng produkto.